硅片清洗劑主要用在單多晶線切割后的硅片表面清洗處理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面潔凈如一，特別適用于太陽(yáng)能硅片清洗，有利于硅片制絨，提高電池片的轉(zhuǎn)化效率國(guó)內(nèi)硅片清洗劑主要有三種，分別是單組份清洗劑，雙組份清洗劑，多組分清洗劑。

硅片清洗劑的主要特性：

1、對(duì)硅片切割液、研磨液等具有較好乳化、分散及清潔作用且使用壽命長(zhǎng)，易于清洗漂洗

2、對(duì)工件表面無(wú)腐蝕，不變色，無(wú)斑白點(diǎn)

3、加溫使用，濃度高、成本低、速度快，效果好

4、清洗性能好，清洗后的硅片表面無(wú)殘留，硅片制絨及光電性能好

5、配合超聲波，清洗硅粉與顆粒物效果好，潔凈度高

6、本產(chǎn)品無(wú)磷，易于生物降解，環(huán)保性能好

在硅片清洗中為避免離子沾污通常使用非離子型表面活性劑在切片過(guò)程中，切屑、油污、金屬原子等易粘附在Si片表面,清洗液中的表面活性劑一方面能吸附各種粒子、有機(jī)分子，并在Si表面形成一層吸附膜，阻止粒子和有機(jī)分子污粘附在Si表面上，另一方面可滲入到粒子和油污粘附的界面上，把粒子和油污從界面分離隨清洗液帶走,起到清洗作用使Si片表面潔凈。

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